Keramisk substrat Wafer Lamineringsmaskin Filmklistringssystem Fyrkantig ramring

Keramiskt substrat dedikerad waferlamineringsmaskin

Inga bubblor eller grader

Grön antistatisk beläggning

Teflon värmebordsplatta

Mikroporös vakuumadsorption

Stöd fyrkantig stålringfilm

PRODUKTENS DETALJER OCH FUNKTIONER

Justerbar elasticitet på bordsskivan: Mikroporös bordsskiva

Temperaturregulator: används för att ställa in värmetemperaturen

Vakuummätare: Vakuumtrycksdisplay på bordet

Vakuumbrytare: 4-tums, 6-tums, 8-tums vakuumbrytare

Temperaturkontrollbrytare: temperatur på och av-funktion

Återvinningsrulle: Återvinning av skyddsfilm

Bricka: Placera wafers (PTFE-yta)

Sidodörr: bekväm för underhåll och filmbyte

Filmsläppningsrulle: inställning och fixering av film

Övergångsrullkomponent: övergång av film

Tekniskt larm: När räknarvärdet når det inställda värdet ljuder larmet

Bakstycke: skydd för filmens placeringsområde, kan öppnas och stängas, bekvämt för drift och underhåll

Filmrulle: Rulla filmen för att göra den platt, skrynkelfri och bubbelfri

Skärkomponenter: infällbart skärblad, säkerhetsskydd

Skärhandtag: ringkaparens ringskärhandtag

Lokala fördelar:

1- Anpassar sig till keramik och wafers med olika tjocklekar: Utformad med en uppvärmd och elastisk filmbeläggningsplattform, lämplig för wafers och keramik med olika tjocklekar

2-- Filmrullens tryck kan justeras enligt kundens produktkrav

3-- Skydda produkten, utrustad med antistatisk teflon-arbetsskiva och värmefunktion

4- Utrustningen är effektiv och stabil och har ett flytande arbetsbord och en precisionsstyrstång för att säkerställa stabilitet och noggrannhet under filmappliceringsprocessen. Samtidigt kan rulltrycket justeras för att anpassas till produkter med olika tjocklekar.

5- Multifunktionell, vissa manuella waferlamineringsmaskiner har automatisk cirkulär banskärning av självhäftande film, plasmaelektrostatisk funktion etc., vilket säkerställer att lamineringen är jämn och fri från grader och bubblor.